[发明专利]高分辨率和高成像速度的合成孔径相位显微系统和方法在审

专利信息
申请号: 202011576735.0 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN113049587A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 周仁杰;郑程 申请(专利权)人: 香港中文大学
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84;G01N21/01
代理公司: 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 代理人: 石伟
地址: 中国香港*** 国省代码: 香港;81
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摘要: 发明提供一种高分辨率和高成像速度的合成孔径相位显微(HISTR‑SAPM)系统和方法,用于材料科学和生物研究中新兴应用,包括但不限于分析亚波长结构材料和定量分析高速细胞动力学。该系统包括沿样品入射的第一照明光束和作为参考光的第二照明光束组成的马赫-曾德尔干涉仪。其中,数位微镜装置(DMD)接收第一照明光束并投射出不同角度的样品照明光束,透射样品之后被显微物镜接收,与准直的参考光束干涉,在相机上形成干涉图,利用对不同照明光角度下形成的干涉图的频谱分析和孔径合成,实现高分辨且快速的定量相位成像。
搜索关键词: 高分辨率 成像 速度 合成 孔径 相位 显微 系统 方法
【主权项】:
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