[发明专利]一种微纳负泊松比结构及其双光子聚合制备方法在审

专利信息
申请号: 202011578200.7 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112745447A 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 崔承云;陈璐;沈鹏;冯森;魏礼桢;崔熙贵 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: C08F220/14 分类号: C08F220/14;C08F2/50;C08F220/10;C08F212/08;C08F220/44;C08F2/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种微纳负泊松比结构及其双光子聚合制备方法,该方法包括步骤S1:设计具有负泊松比结构的双光子聚合体结构模型,将模型离散分层;步骤S2:配制满足双光子聚合的光敏树脂;步骤S3:将光敏树脂和金属离子溶液充分混合并放入激光打印池内;步骤S4:设置激光加工参数;步骤S5:实施双光子聚合工艺,获得微纳负泊松比结构;步骤S6:溶掉未交联的树脂,随后去应力、除油、清洗、烘干;步骤S7:测试所得微纳负泊松比结构的性能。本发明是在光敏树脂满足双光子聚合的前提下,通过飞秒激光精确聚合设计好的负泊松比结构,然后通过溶入金属离子提高微纳负泊松比结构的性能,为形性可控微纳负泊松比结构的高质量高精度制备提供一种可行的思路。
搜索关键词: 一种 微纳负 泊松比 结构 及其 光子 聚合 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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