[发明专利]一种二维材料模拟电路及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202011578341.9 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112687739B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 叶镭;彭追日;童磊;李政;缪向水 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/06;H01L21/335;H01L29/18;H01L29/12
代理公司: 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 代理人: 廖盈春;李君
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于二维半导体电路领域,具体涉及一种二维材料模拟电路及其制备方法和应用,包括:衬底,双极可调性二维材料,铁电衬底材料薄膜,以及顶部、底部金属电极;二维材料和铁电衬底材料薄膜层叠设置;二维材料的表面设置有顶部金属电极;铁电衬底材料薄膜的表面设置有底部金属电极;铁电衬底材料薄膜用于在不同极化状态下对二维材料中的沟道载流子类型和浓度进行调制;其中铁电衬底材料薄膜的极化通过在顶部和底部金属电极之间外接脉冲电场实现。本发明对铁电衬底材料极化之后撤掉电场,仅利用铁电衬底材料极化状态对二维材料沟道载流子调控,大幅降低功耗;同时通过设置铁电体不同极化状态调控二维材料沟道,具备可重构电路存储和计算能力。
搜索关键词: 一种 二维 材料 模拟 电路 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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