[发明专利]一种人工晶体补偿校正系统及方法有效
| 申请号： | 202011579848.6 | 申请日： | 2020-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN112790895B | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 尉佩;陈文光 | 申请（专利权）人： | 上海美沃精密仪器股份有限公司 |
| 主分类号： | A61F2/16 | 分类号： | A61F2/16 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 徐俊 |
| 地址： | 201100 上海市闵行区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种人工晶体补偿校正系统及方法，包含两大模块，像差检测系统和激光雕刻系统；像差检测系统基于Hartmann–Shack波前像差测量系统(HSWS)，实现视网膜成像实时检测。像差检测系统检测处当前安装的晶体下全眼像差后，根据后台计算出的补偿模型，在非球面后表面上加工出微透镜环状序列，微调校正此像差；激光雕刻系统可以提供大NA高精度的激光加工，实现人工晶体的面型精加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 人工 晶体 补偿 校正 系统 方法 | ||
【主权项】：
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