[发明专利]一种SPEEK/IL夹层结构参比电极及其制备方法和应用有效
申请号: | 202011581890.1 | 申请日: | 2020-12-28 |
公开(公告)号: | CN112782249B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 潘依雯;沈蕴文;胡佩;孙振涛 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G01N27/30 | 分类号: | G01N27/30;G01N27/333 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 郑海峰 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种SPEEK/IL夹层结构参比电极及其制备方法和应用。参比电极本体端部设有SPEEK/IL夹层结构;所述的SPEEK/IL夹层结构包括两层SPEEK/IL复合膜和一层SPEEK膜,所述SPEEK膜层位于SPEEK/IL夹层结构的最外层。参比电极表面覆盖的SPEEK/IL有机半透膜对氢离子以外的离子具有隔离作用,尤其对离子尺寸较小的硫离子具有良好的阻隔作用。本发明由于其结构紧凑,机械强度大,不易受干扰的特点,能够在在复杂的水质环境中工作不易受到氧化还原物质的干扰,适合长期的pH值的检测,在深海探测,化工等领域有着广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 speek il 夹层 结构 参比电极 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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