[发明专利]一种具有偏光效应薄膜镀制的方法

摘要

本发明涉及一种具有偏光效应薄膜镀制的方法。该方法首先通过水热合成制备出粒径达纳米级的卤化银AgX颗粒，然后将纳米卤化银AgX颗粒分散于无机或有机的基础成膜溶液中，通过旋涂、提拉或吹制镀膜法在无机或有机基板表面镀制膜层，镀制后的膜层中含有均匀分散的纳米卤化银AgX颗粒。将镀膜后的有机或无机基板放置于光栅掩模板下，在梯度电场的辅助作用下进行曝光处理，基板表面膜层中的纳米卤化银AgX颗粒被还原成金属纳米银，最终在基板表层形成沿着光栅定向排布的金属纳米银线栅微结构。本发明方法具有可操作性强，制造的偏光片消光比高、好的化学稳定性，偏光响应波长可调以及基板材料选择自由等优点，可以用于光学传感器、光隔离器等光学器件的制备。