[发明专利]集成超结构砷化镓基阻挡杂质带探测器及制备方法在审

专利信息
申请号: 202011587131.6 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112731547A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 童武林;陈雨璐;王兵兵;王晓东;刘文辉;陈栋;王添雄;崔慧源;吴翼飞;秦世宏;王洋刚 申请(专利权)人: 上海微波技术研究所(中国电子科技集团公司第五十研究所)
主分类号: G01V8/10 分类号: G01V8/10;G01V13/00
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊;郭国中
地址: 200063 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种集成超结构砷化镓基阻挡杂质带探测器及制备方法,包括高阻砷化镓衬底、砷化镓掺杂吸收层、高阻砷化镓阻挡层、超结构、正电极接触区及正电极、负电极接触区及负电极;砷化镓掺杂吸收层位于阻挡层旁边,正电极接触区及正电极、负电极接触区及负电极设置在砷化镓掺杂吸收层左右两侧;超结构位于砷化镓掺杂吸收层上方。本发明基于超结构的偶极子共振效应,利用光场的局域增强特性,在吸收层较薄的情况下增强对入射太赫兹波的吸收,提高吸收转换效率,进而提升探测器光电响应的信噪比。基于超结构的偶极子共振特性,改变超结构的结构参数来调控共振波长,实现探测器250μm以上太赫兹波段的增强吸收,获得高性能的太赫兹探测器。
搜索关键词: 集成 结构 砷化镓基 阻挡 杂质 探测器 制备 方法
【主权项】:
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