[发明专利]一种单晶硅片清洗剂及其应用有效
| 申请号： | 202011593747.4 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112608799B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 喻桉;史华红;麦裕良;文武 | 申请（专利权）人： | 广东省科学院化工研究所 |
| 主分类号： | C11D1/14 | 分类号： | C11D1/14;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/39;C11D11/00;H01L31/18;C11D3/60 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 肖云 |
| 地址： | 510665 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单晶硅片清洗剂及其应用，本发明的单晶硅片清洗剂包括以下原料：醇类化合物、过氧化氢、烷基氢氧化铵水合物、氨水和含氟表面活性剂；其实现了高效去除单晶硅片表面的聚合物颗粒、光致抗蚀剂、人皮油脂、硅基真空脂、机械油、金属污染物等加工杂质并去除硅片表面的机械损伤层；同时，本发明避免了以无机强碱作为传统单晶硅片清洗剂主要成分的技术缺陷，提高了有机污染物的去除效果，改善了强碱对硅片5.5％的减薄损失，降低了后续制绒过程的破片率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 洗剂 及其 应用 | ||
【主权项】：
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