[发明专利]一种用于半导体激光器的光束整形装置及整形方法有效

专利信息
申请号: 202011600027.6 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN112666717B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 董亭亭;王晨晟;耿安兵;姚远;齐志强 申请(专利权)人: 华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 刘璐
地址: 430000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种用于半导体激光器的光束整形装置及整形方法,光束整形装置包括:光源、依次设置的快轴整形柱透镜和慢轴整形长方体双面微纳结构透镜;所述快轴整形柱透镜和慢轴整形长方体双面微纳结构透镜与光源三者的中心位于同一光轴,所述快轴整形柱透镜为梯度折射率透镜,其透镜形状为圆柱体,且梯度折射率成环形均匀分布;所述慢轴整形长方体双面微纳结构透镜为一透明长方体结构,其靠近所述快轴整形柱透镜的侧面上设有第一微纳结构,远离所述快轴整形柱透镜的侧面上设有第二微纳结构。该光束整形装置能够用于半导体激光器光束在快轴方向上的光束的准直和发散角的压缩以及慢轴方向一定发散角的调制、分割和重排、均匀化、校正光束方向等工作。
搜索关键词: 一种 用于 半导体激光器 光束 整形 装置 方法
【主权项】:
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