[发明专利]一种通过等离子体辉光光谱来控制磁控溅射镀膜杂质含量的方法有效
| 申请号： | 202011601018.9 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112746259B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 瞿佳华;刘宽菲;任宇航 | 申请（专利权）人： | 尚越光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/14;C23C14/08 |
| 代理公司： | 杭州知见专利代理有限公司 33295 | 代理人： | 赵越剑 |
| 地址： | 311121 浙江省杭州市余杭区五*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种通过等离子体辉光光谱来控制磁控溅射镀膜杂质含量的方法，光谱分析工作站分析收集到的光谱内容进行处理，对其中的光谱信息进行表征，并得出等离子体的光谱图；将所得光谱图和标准光谱图进行对比分析，若光谱图正常，则磁控溅射工艺正常进行，若光谱图异常，则自动停止磁控溅射工艺，并采取修正措施后继续磁控溅射；最终磁控溅射镀膜获得Mo背电极或TCO层。本发明通过辉光放电过程进行监控，能准确检测出惰性气体氛围和靶材中的杂质，同时能确定杂质的种类，针对不同的杂质做出准确有效的调控措施，从而有效控制镀膜中的杂质含量，并确保镀膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 等离子体 辉光 光谱 控制 磁控溅射 镀膜 杂质 含量 方法 | ||
【主权项】：
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