[发明专利]一种清洗装置有效
申请号: | 202011606846.1 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN112808639B | 公开(公告)日: | 2022-08-09 |
发明(设计)人: | 何鸣;张洁;王泽隆;林武庆 | 申请(专利权)人: | 湖南三安半导体有限责任公司 |
主分类号: | B08B1/00 | 分类号: | B08B1/00;B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 严诚 |
地址: | 410000 湖南省长沙市高新开发*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种清洗装置,涉及晶体清洗技术领域。该清洗装置包括储液箱、清洗箱和清洗毛刷。储液箱用于储存清洗液,清洗箱放置于储液箱内,清洗箱开设有进液孔,进液孔用于供清洗液流入清洗箱,清洗毛刷可活动地安装于清洗箱上,清洗毛刷用于对放入清洗箱内的晶体进行刷洗。与现有技术相比,本发明提供的清洗装置由于采用了开设有进液孔的清洗箱以及可活动地安装于清洗箱上的清洗毛刷,所以能够方便快捷地对晶体进行清洗,清洗效率高,清洗效果好,并且能够提高工作人员的舒适度,避免晶体掉落发生磕碰的风险。 | ||
搜索关键词: | 一种 清洗 装置 | ||
【主权项】:
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