[发明专利]基于弱耦合增强的石墨烯结构、石墨烯膜及光电器件有效

专利信息
申请号: 202011612019.3 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112687756B 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 高超;彭蠡;李泠霏;方文章;刘英军 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L31/028 分类号: H01L31/028;H01L31/0352;H01L31/102
代理公司: 杭州君锐达知识产权代理有限公司 33544 代理人: 黄欢娣
地址: 310000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种基于弱耦合增强的石墨烯结构,这种石墨烯结构通过弱耦合作用是的本体材料具有线性能带特征,促进热电子的跃迁,增加联合态密度;AB结构的存在和厚度的增加配合延长热电子弛豫时间,从而提升高能态热电子数量,同时降低了膜制备工艺的要求和成本,增加了膜制备的成功率。另外,基于石墨烯/半导体肖特基结,可以探测低能量的光,将石墨烯/硅光电器件的探测范围从可见和近红外拓展到中远红外。本发明还提供一种弱耦合增强的石墨烯光电膜,通过弱耦合实现多层石墨烯的光吸收的叠加,提高石墨烯膜的光吸收率,从而在低能量波段,热电子仍然可以积累。
搜索关键词: 基于 耦合 增强 石墨 结构 光电 器件
【主权项】:
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