[发明专利]基于弱耦合增强的石墨烯结构、石墨烯膜及光电器件有效
申请号: | 202011612019.3 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN112687756B | 公开(公告)日: | 2023-09-15 |
发明(设计)人: | 高超;彭蠡;李泠霏;方文章;刘英军 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L31/028 | 分类号: | H01L31/028;H01L31/0352;H01L31/102 |
代理公司: | 杭州君锐达知识产权代理有限公司 33544 | 代理人: | 黄欢娣 |
地址: | 310000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种基于弱耦合增强的石墨烯结构,这种石墨烯结构通过弱耦合作用是的本体材料具有线性能带特征,促进热电子的跃迁,增加联合态密度;AB结构的存在和厚度的增加配合延长热电子弛豫时间,从而提升高能态热电子数量,同时降低了膜制备工艺的要求和成本,增加了膜制备的成功率。另外,基于石墨烯/半导体肖特基结,可以探测低能量的光,将石墨烯/硅光电器件的探测范围从可见和近红外拓展到中远红外。本发明还提供一种弱耦合增强的石墨烯光电膜,通过弱耦合实现多层石墨烯的光吸收的叠加,提高石墨烯膜的光吸收率,从而在低能量波段,热电子仍然可以积累。 | ||
搜索关键词: | 基于 耦合 增强 石墨 结构 光电 器件 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的