[发明专利]一种光耦合结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202011613620.4 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112558245A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 孙瑜;曹立强;薛海韵;刘丰满 | 申请（专利权）人： | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/42 | 分类号： | G02B6/42 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 薛异荣 |
| 地址： | 214135 江苏省无锡市新*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种光耦合结构及其制备方法，其中，光耦合结构包括：基板；设置于所述基板上的光发射单元，所述光发射单元包括光发射器；设置于所述基板上的复合载板，所述复合载板包括载板本体和透镜层，在所述载板本体的厚度方向上，所述透镜层位于所述载板本体的一侧表面，所述载板本体中具有贯穿载板本体厚度的光纤通孔，所述透镜层位于所述光发射单元和所述载板本体之间。所述光耦合结构能够实现无源对准、精度高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耦合 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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