[发明专利]一种高密度的含W高活性高熵合金及其应用有效

专利信息
申请号: 202011616572.4 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112813329B 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 唐宇;李顺;白书欣;王睿鑫;刘希月;万红;叶益聪;朱利安;王震 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: C22C30/00 分类号: C22C30/00;F42B12/72
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 邱轶
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开一种高密度的含W高活性高熵合金及其应用,该合金具有简单的固溶体结构,金属元素W与活性元素之间的金属键结合较弱,在高速冲击、破碎的过程中,Ti、Zr等高活性元素会优先与O发生氧化反应,活性元素氧化反应释放的能量能够促使处于弱结合状态下的W元素也产生氧化反应而释放能量,使得本发明的合金在具有高密度、高强度等钨基合金特性的同时还能够达到高的能量释放。
搜索关键词: 一种 高密度 活性 合金 及其 应用
【主权项】:
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