[发明专利]一种高密度的含W高活性高熵合金及其应用有效
申请号: | 202011616572.4 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN112813329B | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 唐宇;李顺;白书欣;王睿鑫;刘希月;万红;叶益聪;朱利安;王震 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
主分类号: | C22C30/00 | 分类号: | C22C30/00;F42B12/72 |
代理公司: | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人: | 邱轶 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种高密度的含W高活性高熵合金及其应用,该合金具有简单的固溶体结构,金属元素W与活性元素之间的金属键结合较弱,在高速冲击、破碎的过程中,Ti、Zr等高活性元素会优先与O发生氧化反应,活性元素氧化反应释放的能量能够促使处于弱结合状态下的W元素也产生氧化反应而释放能量,使得本发明的合金在具有高密度、高强度等钨基合金特性的同时还能够达到高的能量释放。 | ||
搜索关键词: | 一种 高密度 活性 合金 及其 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科技大学,未经中国人民解放军国防科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011616572.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。