[发明专利]一种设置在鼻嵴前上方的填充假体及假体模型在审

专利信息
申请号: 202011617878.1 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112618102A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 李东;安阳;王关卉儿 申请(专利权)人: 北京大学第三医院(北京大学第三临床医学院)
主分类号: A61F2/18 分类号: A61F2/18
代理公司: 北京预立生科知识产权代理有限公司 11736 代理人: 李红伟;孟祥斌
地址: 100191 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种设置在鼻嵴前上方的填充假体及假体模型,目的是矫正鼻小柱基底凹陷、增大鼻小柱上唇角、增到鼻槛。两者包括四面体结构,四面体结构包括一个底面,前侧面及两个左右侧面;其中固定底面设置在鼻嵴上方,前侧面与鼻小柱接触;两个左右侧面为用于撑起鼻嵴上方及鼻小柱间皮肤起到增大鼻小柱上唇角,矫正鼻小柱基底凹陷作用的支撑面;两左右侧面为等大的面,两左右侧面都延伸成为为两个等大的弧形面一;且两弧形面一间通过平顺的弧形面二实现连接;四面体结构的固定底面及前侧面的所有边都为圆角后的弧形结构;固定底面上设置于鼻嵴形状相似的曲面凹陷一,前侧面上设置与鼻小柱形状相似的曲面凹陷二;曲面凹陷一与曲面凹陷二为平顺的凹陷结构。
搜索关键词: 一种 设置 鼻嵴前 上方 填充 模型
【主权项】:
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