[发明专利]一种抗光幕的制备方法在审
| 申请号： | 202011618625.6 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112799276A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 王祖超 | 申请（专利权）人： | 苏州莱科光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/60 | 分类号： | G03B21/60;C09J133/04;C09J167/06;C09J171/00;C09J11/04 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 滕诣迪 |
| 地址： | 215513 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及投影幕技术领域，具体涉及一种抗光幕的制备方法，包括：步骤一：制作模具；步骤二：配制UV胶水；步骤三：将光学膜基膜安装于放卷机上；步骤四：将放卷机上的光学膜基膜一端穿过压膜机，并缠绕在收卷机上；步骤五：在光学膜基膜上端面上涂抹一定厚度的黑胶；步骤六：硬性模具在黑胶上均匀结构；步骤七：通过UV灯对通过压膜机后的基膜进行一段时间的照射，并将照射后的光学膜基膜进行收卷；步骤八：将步骤七上的光学基膜安装在UV印刷机上,通过UV印刷机对光学基膜进行单边打印，制成抗光幕。本发明效率高，良品率高，成本低，可助力超短焦投影推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抗光幕 制备 方法 | ||
【主权项】：
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