[发明专利]一种化学气相沉积系统

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积系统，包括：反应腔，所述反应腔包括中空的壳体，所述壳体水平放置，所述中空的壳体的两侧具有进气口、排气口和/或操作口，气体从进气口沿水平方向进入反应腔；水平放置在所述反应腔内第一基座和第二基座，第一基座和第二基座与进气口的距离相同，所述反应腔被所述第一基座和第二基座分为上腔体和下腔体，待处理晶片放置在所述第一基座和第二基座上，处于上腔体中，其中所述第一基座包括第一可旋转基座和第一可旋转基座外围的第一外盒，所述第二基座包括第二可旋转基座和第二可旋转基座外围的第二外盒，第一外盒与第二外盒接触或具有第一间隙，第一可旋转基座和第二可旋转基座在气流入口处相向旋转，并且在第一可旋转基座和第二可旋转基座距离最近处旋转方向与气流方向相同。