[发明专利]一种用于钨抛光的化学机械抛光液在审
| 申请号： | 202011619515.1 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114686108A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 郁夏盈;殷天亮;许旭强;董泽同;王晨 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于钨抛光的化学机械抛光液。其中，采用带有负电荷的二氧化硅作为研磨剂与铁离子、有机稳定剂与氧化剂等组合，得到一种可以同时抛光金属钨、氧化硅的抛光液。本发明提高了负电荷磨料抛光钨的速度，具有优异的市场应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
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