[发明专利]一种用于化学机械抛光的金属膜厚测量装置在审
申请号: | 202011620335.5 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN112729096A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 王成鑫;王同庆;路新春;田芳馨 | 申请(专利权)人: | 清华大学;华海清科股份有限公司 |
主分类号: | G01B7/06 | 分类号: | G01B7/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于化学机械抛光的金属膜厚测量装置,包括:电涡流传感器,其包括磁芯和线圈,所述线圈沿所述磁芯的周向缠绕在所述磁芯的外周壁上;前置信号处理模块,与所述电涡流传感器连接,用于对所述电涡流传感器输入固定频率的正弦激励信号,并通过所述电涡流传感器采集与金属膜厚相关的电压信号;数据采集处理模块,与所述前置信号处理模块连接,用于接收所述前置信号处理模块输出的所述电压信号将其转换为数字信号,并根据预存的厚度标定表将所述数字信号转换为对应的膜厚值;通讯模块,用于实现所述数据采集处理模块与上位机之间的通讯。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 机械抛光 金属膜 测量 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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