[发明专利]一种用于X射线与软X射线波段的滤片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011620922.4 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112820439B 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 陈溢祺;朱忆雪;张秀霞;金宇;朱东风;朱运平;金长利 申请(专利权)人: 苏州闻道电子科技有限公司
主分类号: G21K1/10 分类号: G21K1/10;C23C14/06;C23C14/12;C23C14/20;C23C14/24;C23C14/35
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 涂琪顺
地址: 215400 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种用于X射线与软X射线能段的滤片及其制备方法,属于光学元件技术领域。本发明中含有Sc层的滤片透射率在K吸收边0.276nm(E=4500eV)和L吸收边2.48nm(E=500eV)前后有非常明显的对比。由于B的吸收边在190eV,本发明提供的滤片在0.276nm~0.31nm(4000~4500eV)和2.48nm~6.53nm(190~500eV)范围内可以有效地对高次谐波进行抑制。本发明提供的滤片的制备方法,本发明先刻蚀硅片再镀膜,得到的滤片的品质高,无砂眼现象。实施例的数据表明,本发明制得的Sc/B4C滤片或自支撑Sc/B4C滤片(含有聚酰亚胺膜),均观察不到砂眼。
搜索关键词: 一种 用于 射线 波段 及其 制备 方法
【主权项】:
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