[发明专利]一种磁控溅射卷绕设备的镀膜室装置有效

专利信息
申请号: 202011622918.1 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112853302B 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 余荣沾;王忠雨;袁世成;张欣;于小杰 申请(专利权)人: 广东欣丰科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35
代理公司: 北京华专卓海知识产权代理事务所(普通合伙) 11664 代理人: 王一;张继鑫
地址: 529399 广东省江门*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本公开的实施例提供了一种磁控溅射卷绕镀膜设备的镀膜室。所述镀膜室包括镀膜辊,用于支撑被供给的基材,以进行镀膜处理;输入导辊,其设置在所述镀膜辊的上游侧,基材经所述输入导辊供给至所述镀膜辊;输出导辊,其设置在所述镀膜辊的下游侧,镀膜处理后的基材经所述输出导辊输出;和,腔室,其用于容纳所述镀膜辊、输入导辊和输出导辊,并在其侧壁安装多个朝向所述镀膜辊的阴极,所述输入导辊和输出导辊均设置在所述镀膜辊的下侧。以此方式,可以改善阴极间的隔离效果并防止废渣污染靶材表面;改善磁控溅射卷绕镀膜设备使用维护的便捷性,缩短了维护操作时间,进而提省了生产效率;缩小了腔室容积,节省抽气和布气的时间和能源成本。
搜索关键词: 一种 磁控溅射 卷绕 设备 镀膜 装置
【主权项】:
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