[发明专利]一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法有效

专利信息
申请号: 202011627363.X 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112796794B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 李松;侯宇璐;雷铭;张睿;李锁辉;张艳鹏;王道乐三;武波;陈俐光;李桐;刘国怀 申请(专利权)人: 中国建筑一局(集团)有限公司;中建市政工程有限公司
主分类号: E21D11/15 分类号: E21D11/15
代理公司: 北京智桥联合知识产权代理事务所(普通合伙) 11560 代理人: 张卫武
地址: 100071 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法,包括以下步骤:第一步:采取分段开挖暗挖隧道二层井结构;先开挖二层井结构的首层,施工首层格栅;第二步:制作首层底板结构,并在首层底板结构与首层格栅连接的边角处采用“T型格栅”预留接头;第三步:开挖二层井结构的底层结构,及时将底层结构的格栅与所述“T型格栅”预留接头连接,形成封闭结构,保证施工完全。本发明可有效降低暗挖法隧道施工局部二层井过程中的安全风险,且不对后续各类施工造成干扰,实现高效、简单、灵活的目的。本发明施工简单、安全可靠、灵活度高,可有效提高暗挖隧道施工过程中局部二层井施工的工作效率与安全性。
搜索关键词: 一种 隧道 初次 衬砌 阶段 快速 施工 局部 地下 二层井 方法
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