[发明专利]一种实现大面积多光源高均匀性曝光装置及其制作方法在审
| 申请号： | 202011628562.2 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112612187A | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 叶芸;曹项红;郭太良;林映飞;江宗钊;杨涛;张翔 | 申请（专利权）人： | 福州大学;闽都创新实验室 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 陈方淮;蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种实现大面积多光源高均匀性曝光装置，其特征在于：包括多光源切换装置、线光源、抛物面四棱台反光罩，曝光台面，其特征在于：所述抛物面四棱台反光罩上下端面贯通，其四周面均为曲面，抛物面四棱台反光罩上端开口小于下端开口且上端开口位于线光源正下方，所述线光源设置若干且均安装在多光源切换装置上并经其步序切换，所述曝光台面位于抛物面四棱台反光罩下端开口下方，所述抛物面四棱台反光罩周面均为双层结构，将光照直接接触的部分定义为外层,即内外分别为光吸收层与反射层，该多光源高均匀性曝光装置结构简单，有效降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 大面积 光源 均匀 曝光 装置 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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