[发明专利]一种采用无掩模定域性电沉积方法制备微柱状结构的工艺有效
| 申请号： | 202011632804.5 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112831810B | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 佐姗姗;吴蒙华;贾卫平;苏晓冰;钱宁开 | 申请（专利权）人： | 大连大学 |
| 主分类号： | C25D5/02 | 分类号： | C25D5/02;C25D17/12;C25D5/18;C25D21/18;C25D3/18;B33Y10/00;B33Y80/00 |
| 代理公司： | 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人： | 胡景波 |
| 地址： | 116622 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种采用无掩模定域性电沉积方法制备微柱状结构的工艺，属于增材制造领域。本发明解决技术问题首先配置电镀液和制备阴阳极，然后设置沉积工艺参数，最后对沉积物进行检测。本发明中无掩膜定域性电沉积工艺方法无需昂贵设备，工艺过程简单，生产成本低，生产效率高，适用于多种导电金属及合金，具有良好的工业应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 无掩模定域性电 沉积 方法 制备 柱状 结构 工艺 | ||
【主权项】：
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