[发明专利]可调整晶圆边缘膜厚度的托盘装置在审
申请号: | 202011633330.6 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112786522A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 张亚新;戚艳丽;吴凤丽;叶五毛 | 申请(专利权)人: | 拓荆科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 李丹 |
地址: | 110179 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是关于一种可调整晶圆边缘膜厚度的托盘装置,包含:复数个晶圆承载台,每一晶图承载台具有一开口,该开口边缘处设有一抵靠部及由抵靠部向上延伸至该晶圆承载台表面的一第一倾斜部,其中藉由改变该第一倾斜部的倾斜角度及高度,以调整晶圆边缘膜厚度。 | ||
搜索关键词: | 可调整 边缘 厚度 托盘 装置 | ||
【主权项】:
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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