[发明专利]双面X射线探测器及成像方法在审

专利信息
申请号: 202011633864.9 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112834530A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 程里朋;林言成;高鹏飞 申请(专利权)人: 上海奕瑞光电子科技股份有限公司
主分类号: G01N23/00 分类号: G01N23/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 201201 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种双面X射线探测器及成像方法,包括第一闪烁体层、第一传感器层、过滤层、第二传感器层及第二闪烁体层;本发明无需增加防背散射材质层,可从根本上解决背散射问题,且可降低成本、减轻重量、节省空间;能够满足提供具有不同分辨率和闪烁体层的需求,无需更换探测器或是更换传感器,可提高工作效率;组装拆卸便利,互不影响,可提高拆装效率;能够提供多种成像方法包括单侧单源单能模式,传感器的正照式和背照式可按照需求切换;双侧单源单能模式,可同时对不同测试对象采集图像,提高成像效率;双侧单源双能模式,可对同一测试对象同时成像,满足对高低能同时成像的需求。
搜索关键词: 双面 射线 探测器 成像 方法
【主权项】:
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