[发明专利]一种发光二极管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202011633971.1 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112670386B 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 蒋振宇;闫春辉 申请(专利权)人: 深圳第三代半导体研究院
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 黎坚怡
地址: 518000 广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及发光二极管领域,具体公开一种发光二极管及其制造方法,该发光二极管包括:衬底;发光外延层,包括依次层叠设置于衬底的一侧主表面的第一半导体层、有源发光层以及第二半导体层;多个电极图案,多个电极图案埋设于第一半导体层或第二半导体层中,并相互连接且呈网格状分布。通过上述方式,能够解决现有技术存在的发光二极管电流扩散的不均匀、热扩散的不均匀和光提取的不均匀的技术问题,有效改善电流分布,提高电流分布均匀性。
搜索关键词: 一种 发光二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
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