[发明专利]一种纳米晶圆产品氮气保护清洗方法有效
| 申请号： | 202011635035.4 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112845298B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 邓信甫;张先明;刘大威;陈丁堃 | 申请（专利权）人： | 至微半导体（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/10;B08B3/12;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人： | 孙金金;周涛 |
| 地址： | 200241 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米晶圆产品氮气保护清洗方法，包括以下步骤：步骤一、将液体清洗喷头、雾化清洗喷头、氮气喷嘴移动至晶圆片的正上方，调整雾化清洗喷头与晶圆片之间的距离为14‑30毫米；步骤二、晶圆承载机构带动晶圆片转动，氮气喷嘴的外部气源供气，向晶圆片的表面吹氮气，依次开启液体清洗喷头与雾化清洗喷头，向晶圆片的表面喷洒清洗液，对晶圆片的表面进行清洗；步骤三、清洗结束后，雾化清洗喷头、液体清洗喷头、氮气喷嘴依次关闭后由晶圆片的正上方移开。本发明采用氮气吹送，在雾状水的表面形成气体保护膜，保持液体的表面能，阻挡液滴分子团聚，保证了纳米晶圆的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 产品 氮气 保护 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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