[发明专利]待测物的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质有效
| 申请号： | 202011636597.0 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN114764180B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 陈鲁;吕肃;李青格乐;张嵩 | 申请（专利权）人： | 深圳中科飞测科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/36 | 分类号： | G02B7/36;G02B7/38;G02B21/24 |
| 代理公司： | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人： | 高静 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市龙华区大浪街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种待测物的聚焦方法及聚焦系统、设备和存储介质，聚焦方法包括：获取待测物在不同聚焦高度下的标定图像；根据标定图像获取每层标定图形的第一聚焦度参数与聚焦高度的分布关系，分布关系为高斯分布；分别对多层标定图形的分布关系求对数后进行加权处理，获取与聚焦高度呈线性关系的标定曲线；获取最佳聚焦高度参考值；拍摄获取待测物的待测图像；根据待测图像获取每层标定图形的第二聚焦度参数；将待测图像中每层标定图形的第二聚焦度参数分别求对数后进行加权处理，获取测试差值；利用标定曲线确定测试差值所对应的实际高度，并计算最佳聚焦高度参考值与实际高度的差值作为待测图像的离焦量。本发明在保证聚焦精度的同时，提高聚焦速度。 | ||
| 搜索关键词： | 待测物 聚焦 方法 系统 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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