[发明专利]多层光栅结构在审

专利信息
申请号: 202011636943.5 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112649910A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 尹正坤;孙理斌;汪杰;陈远 申请(专利权)人: 宁波舜宇奥来技术有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 刘娜
地址: 315455 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种多层光栅结构。多层光栅结构包括:基底结构;光栅结构,光栅结构与基底结构连接,光栅结构为多个,多个光栅结构间隔设置,光栅结构包括至少两个光栅层,且相邻两个光栅层的折射率不同;其中,光栅结构为倾斜光栅结构,倾斜光栅结构与基底结构之间的夹角小于45°,光栅结构的光栅周期小于1.5倍入射波长。本发明解决了现有技术中光栅结构存在衍射效率不均匀的问题。
搜索关键词: 多层 光栅 结构
【主权项】:
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