[发明专利]一种双阴极间断式抛光铜的方法在审
| 申请号： | 202011638281.5 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112813488A | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 郑辉;徐海波;张阳;郑梁;郑鹏 | 申请（专利权）人： | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | C25F3/22 | 分类号： | C25F3/22 |
| 代理公司： | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人： | 陆永强 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种双阴极间断式抛光铜的方法，旨在提供一种抛光效果好、效率高、操作方便的铜表面抛光的方法；该方法包括下述步骤：配制抛光溶液并置于反应皿中；将两个碳棒浸入溶液中作为阴极，将待抛光铜片置于两个阴极正中间作为阳极；接通电源进行间断式抛光，即先在一定的电流密度下(1.5‑2.5A/cm |
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| 搜索关键词： | 一种 阴极 间断 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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