[发明专利]一种1064nm激光吸收染料及制备方法、光学-红外-激光兼容隐身涂层在审

专利信息
申请号: 202011638882.6 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112759946A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 陶益杰;张朝阳;丁心雄;孟晓明;周建伟;闫佳 申请(专利权)人: 上海戎科特种装备有限公司
主分类号: C09B57/00 分类号: C09B57/00;C09B67/22;C07D221/06;C09B67/20;C09D175/04;C09D5/32;C09D5/30
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 邱轶
地址: 201414 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种1064nm激光吸收染料及制备方法、光学‑红外‑激光兼容隐身涂层,该激光吸收染料在1064nm处具有良好的选择性吸收特性,摩尔消光系数为4.2×105M‑1·cm‑1,半峰宽为56nm。该制备方法包括N‑烷基化季胺盐、甲基取代的萘基吲哚型衍生物的合成以及耦联合成最终产物等步骤,该制备方法工艺简单,适用于大规模生产。基于该激光染料良好的激光吸收特性,本发明将所合成染料用于光学‑红外‑激光兼容隐身涂层,通过将激光吸收染料与树脂、光学颜料和低发射率填料等结合,提供了光学颜色满足伪装标准要求、1064nm低反射率、红外低发射率的光学‑红外‑激光兼容隐身涂层。
搜索关键词: 一种 1064 nm 激光 吸收 染料 制备 方法 光学 红外 兼容 隐身 涂层
【主权项】:
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