[发明专利]一种大视场低畸变成像光学系统在审

专利信息
申请号: 202011643137.0 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112558276A 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 张周锋;李思远;于涛;刘宏;杜剑;王飞橙;刘永征;胡炳樑 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/06;G02B1/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王凯敏
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 为克服现有的大视场成像光学系统中畸变较大的技术问题,本发明提供一种大视场、低畸变的光学系统,包括沿光轴到像面依次设置的具有负光焦度的第一透镜、具有正光焦度的第二透镜、具有负光焦度的第三透镜、具有负光焦度的第四透镜、具有负光焦度的第五透镜、光焦度为正的第一胶合镜组、孔径光阑、光焦度为负的第二胶合镜组、具有正光焦度的第十透镜、具有正光焦度的第十一透镜和带通滤光片;第一胶合镜组由具有正光焦度的第六透镜和具有正光焦度的第七透镜构成;第二胶合镜组由具有正光焦度的第八透镜和具有负光焦度的第九透镜构成。本发明全视场分辨率高,中心到边缘视场均匀度高,整体成像质量均匀,且生产成本低,易加工、易检验、易装配。
搜索关键词: 一种 视场 畸变 成像 光学系统
【主权项】:
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