[发明专利]一种C掺杂TiAlN涂层的制备方法在审
| 申请号： | 202011644146.1 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112831752A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 周琼;仝旭;张而耕;黄彪;陈永康;陈伟;方哲伦 | 申请（专利权）人： | 上海应用技术大学 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/22;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 200235 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种C掺杂TiAlN涂层的制备方法，依次包括Ti、TiN、TiAlN和TiAlCN梯度复合涂层，其中，所述的TiAlCN层的制备方法为：启动AlTi靶，设置炉腔温度420‑480℃，真空度0.006‑0.010mbar，偏压大小‑80V，氮气的流量150‑160sccm，乙炔的流量20‑80sccm，通过AlTi靶材电流为90A‑110A，沉积持续时间20‑30min。该涂层的摩擦系数在0.25‑0.35，涂层的硬度在2800HV‑3500HV，耐腐蚀性能好，具有良好的市场前景，可以广泛应用于刀具、模具、航空航天、汽车零部件等产业。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掺杂 tialn 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海应用技术大学，未经上海应用技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011644146.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
