[实用新型]一种用于制备电极的掩模版组件有效
| 申请号： | 202020018892.9 | 申请日： | 2020-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN211454227U | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 刘旭冉;戴春雷 | 申请（专利权）人： | 深圳顺络电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀锋 |
| 地址： | 518110 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于制备电极的掩模版组件，包括透明玻璃板、PET材质菲林，以及将两者牢固且平整贴合在一起的PET材质双面胶，所述透明玻璃板的外周设有限位部，所述PET材质双面胶置于所述限位部内且顶面与所述透明玻璃板的顶面平齐，通过在透明玻璃板的适当位置设置限位部，并通过PET材质双面胶及所述限位部的相互配合，从而可以解决现有技术在牢固性和平整性方面的缺陷，且无需大幅增加成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 电极 模版 组件 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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