[实用新型]一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置有效

专利信息
申请号: 202020036314.8 申请日: 2020-01-09
公开(公告)号: CN211128360U 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 郭星辰;孔祥茹;刘建慧;张燕;王鑫;马志鹏;王日鑫;李朋倡 申请(专利权)人: 河南理工大学
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 454003 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型提供了一种气液两相介质阻挡放电等离子体材料表面处理装置,包括箱体,所述箱体侧面设置有烘干气体入口和烘干气体出口,箱体底部设置有滑台,包括滑板、滚轮和滚轮导向槽,滑台上连接有上极板部件,包括支架、调节杆、固定手轮、上电极和上介质板,在上极板部件下方设置有下极板部件,包括下电极支承块、下电极和下介质板,在箱体和滑台上设置有进出液系统,包括进液漏斗、水槽和排水口。本实用新型合理设置了装置的进出水系统,提供了烘干功能,可实现较好的抽真空效果,从而提高了气相纯度,可实现较好的处理效果,并且设置的开放式滑台和上极板部件便于操作,提高了操作效率。
搜索关键词: 一种 两相 介质 阻挡 放电 等离子体 材料 表面 处理 装置
【主权项】:
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