[实用新型]一种化学气相沉积设备有效
| 申请号： | 202020052652.0 | 申请日： | 2020-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN211256086U | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 梁吉磊;李广超;马雪峰 | 申请（专利权）人： | 合肥维信诺科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 范坤坤 |
| 地址： | 230000 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种化学气相沉积设备，包括工艺腔室和封闭装置，其中，工艺腔室包括：容纳空间和样品入口；封闭装置用于封闭或打开样品入口，封闭装置封闭样品入口时，封闭装置靠近容纳空间的表面与工艺腔室开设有样品入口的第一侧壁的内侧共面。本实用新型实施例的技术方案可以避免等离子体在封闭装置处囤积的情况发生，进而使得工艺腔室内各处的等离子体的浓度相同，样品各处沉积的膜层厚度均匀一致。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
