[实用新型]一种光学抛光设备的研磨盘机构有效
| 申请号： | 202020096832.9 | 申请日： | 2020-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN211517001U | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 西尔维斯特·弗劳伦特;司麓炜;司倡儒 | 申请（专利权）人： | 大连莱诺蒂克工业科技有限公司;大连出口加工区莱诺泰国际工贸有限公司 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B27/00;B24B49/16;B24B47/06;B24B13/005 |
| 代理公司： | 大连至诚专利代理事务所(特殊普通合伙) 21242 | 代理人： | 杨威;涂文诗 |
| 地址： | 116600 辽宁省大*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型属于抛光设备领域，尤其是一种光学抛光设备的研磨盘机构，针对现有的光学设备多数采用研磨盘的方式进行加工，上磨盘的操作方式比较单一，不能根据不同的抛光材料选择上磨盘的状态，适用范围不普遍的问题，现提出如下方案，其包括底座，所述底座的顶部开设有安装槽，且安装槽的底部内壁上转动安装有竖轴，竖轴的顶部延伸至底座的上方，所述竖轴的顶部固定安装有下磨盘，所述底座的顶部固定安装有环盘，且下磨盘的顶部延伸至环盘的内部，本实用新型较之传统的抛光设备，可以根据不同的待抛光材料来选择上磨盘的状态，能够满足生产的需求，扩展适用范围，可实施性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 抛光 设备 研磨 机构 | ||
【主权项】：
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