[实用新型]一种金刚石沉积装置有效
申请号: | 202020123107.6 | 申请日: | 2020-01-17 |
公开(公告)号: | CN211522314U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 王忠强;丁雄傑;王琦;张国义 | 申请(专利权)人: | 北京大学东莞光电研究院 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/513 |
代理公司: | 东莞恒成知识产权代理事务所(普通合伙) 44412 | 代理人: | 邓燕 |
地址: | 523808 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及金刚石制备技术领域,具体涉及一种金刚石沉积装置,包括沉积腔、沉积台和等离子体单元,沉积台装设于沉积腔内,还包括位置控制装置,等离子体单元设有等离子体喷嘴,等离子体喷嘴设于沉积腔内,位置控制装置与等离子体喷嘴连接,与现有技术相比,本实用新型通过设置位置控制装置,可以控制等离子体喷嘴与沉积台的相对位置,根据沉积需要在沉积台的不同位置进行沉积,从而实现沉积出复杂形状的大面积金刚石薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 金刚石 沉积 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的