[实用新型]一种LPCVD双材质真空反应室有效

专利信息
申请号: 202020140602.8 申请日: 2020-01-21
公开(公告)号: CN211497783U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 张凤嘉;任俊江;薇儿妮卡·夏丽叶;张灵;肖益波 申请(专利权)人: 赛姆柯(苏州)智能科技有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/458
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 吴芳
地址: 215000 江苏省苏州市苏州相城区经济技术开*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开一种LPCVD双材质真空反应室,其包括反应室、进气组件及出气管,进气组件与外部气源连接,反应室包括外层腔体及设在外层腔体内的内层腔体;进气组件包括至少一个左进气管及至少一个右进气管,每一个左进气管的进气口设置在反应室长度方向的一端部,每一个右进气管的进气口设置在反应室长度方向的另一端部,左进气管和右进气管上均设有多个出气孔。本实用新型设计的真空反应室,反应室两端均有进气管进行气体扩散,使得反应室内气体分散广泛均匀,出气稳定,提高硅片薄膜均匀性及工艺质量,提高产品优良率;真空反应室采用双层结构,真空性优异,抗冲击性能强,提高整体反应室的强度,提高使用寿命。
搜索关键词: 一种 lpcvd 材质 真空 反应
【主权项】:
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