[实用新型]涂胶曝光显影测量一体化装置有效
申请号: | 202020142918.0 | 申请日: | 2020-01-22 |
公开(公告)号: | CN211375315U | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 王维斌;李龙祥;林正忠;陈明志;严成勉 | 申请(专利权)人: | 中芯长电半导体(江阴)有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/30 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 214437 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种涂胶曝光显影测量一体化装置,所述涂胶曝光显影测量一体化装置包括:主腔体,包括涂胶室、曝光室、显影室、测量室;所述涂胶室用于执行涂胶工序,所述曝光室用于执行曝光工序,所述显影室用于执行显影工序,所述测量室用于测量关键尺寸;晶圆卸载台,用于放置加工完成的晶圆,位于所述主腔体的出口处;机械手臂,用于晶圆的夹取与传送;控制单元,控制所述涂胶曝光显影测量一体化装置的运行。本实施例提供的涂胶曝光显影测量一体化装置及,使曝光机能够和涂胶机、显影机两种有污染气体的设备,有效的结合在一起,提供高效的产出,节约净化厂房空间布局,人力投入,使生产成本大幅降低。 | ||
搜索关键词: | 涂胶 曝光 显影 测量 一体化 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯长电半导体(江阴)有限公司,未经中芯长电半导体(江阴)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020142918.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有指示功能的感应插销
- 下一篇:一机二库制冷装置教学实验系统