[实用新型]进气分配结构以及等离子体设备有效
申请号: | 202020159607.5 | 申请日: | 2020-02-10 |
公开(公告)号: | CN211645376U | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 董海青;申鹏 | 申请(专利权)人: | 深圳市创智捷科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50;B01D46/24;B01D46/42 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 汪建华 |
地址: | 518100 广东省深圳市宝安区航城街*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了进气分配结构,包括进气管,进气管的一端设有气流导向盘,气流导向盘的远离进气管的侧面与外部真空筒连接,进气管与气流导向盘同轴设置;气流导向盘包括为腔体结构的圆盘体,圆盘体的中部设有与进气管连通的聚气腔,圆盘体上设有多个呈曲线延伸的分流导向通道,分流导向通道的一端与聚气腔连通,分流导向通道的另一端穿过圆盘体与真空筒连通。还公开了等离子体设备。通过设置分配结构,气流经过进气管后会先聚集在聚气腔内,然后沿着分流导向通道曲线移动,行进气流最终从圆盘体进入到真空筒的筒内空间。可对气流进行导向分散和冲击弱化,使得气体更平稳地充满真空筒,有利于提高气相沉积的平稳性。 | ||
搜索关键词: | 分配 结构 以及 等离子体 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市创智捷科技有限公司,未经深圳市创智捷科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020159607.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种智能衣架的固定安装结构
- 下一篇:一种病理检验试管置放架
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的