[实用新型]一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置有效

专利信息
申请号: 202020160275.2 申请日: 2020-02-11
公开(公告)号: CN211497784U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 王鑫;曹明刚;安德吉;张磊;焦新宇;金作林 申请(专利权)人: 沧州天瑞星光热技术有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C14/22
代理公司: 北京邦创至诚知识产权代理事务所(普通合伙) 11717 代理人: 张宇锋
地址: 061000 河北省沧州*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开的一种提高真空镀膜气氛均匀性的气路装置,包括一个进气管、至少一个次级分管和一个出气管,所述次级分管将进气管中气体1‑10级对称等分后与出气管连接,所述出气管的两端封闭,出气管沿其长度方向均匀的布置有等径的出气孔。本实用新型与常规气路装置比较,保证了较长长度的气体流量的一致性,提供的气氛更均匀,可控性更高,气氛调整速度快。
搜索关键词: 一种 提高 真空镀膜 气氛 均匀 装置
【主权项】:
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