[实用新型]等离子体沉积装置

摘要

本实用新型提供了等离子体沉积装置，包括腔体、供气系统、等离子体喷枪系统、抽真空系统、射频电源系统和压力控制系统，等离子体喷枪系统包括冷却系统，冷却系统包括第一冷却结构、第二冷却结构，还包括口径调节机构，具备管体、伸缩机构、弹性套，管体一端与第二通孔位于腔体内的端部固定，管体腔内设伸缩机构，多个伸缩机构分布在弹性套周侧且伸缩端与弹性套外周壁固定，弹性套一端开口与第二通孔相对，另端开口朝向腔体内，本等离子体沉积装置在第二通孔处安装口径调节机构，通过伸缩机构调节弹性套的腔道尺寸，从而实现出气口径的调节，使用方便，调节便利。