[实用新型]一种光声干涉显微成像装置有效
| 申请号： | 202020216094.7 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN211553729U | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 谭吉川;蒋文波;于小雨;廖官根 | 申请（专利权）人： | 西华大学 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17;G01N21/45 |
| 代理公司： | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人： | 李蕊 |
| 地址： | 610039 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光声干涉显微成像装置，包括光源，光源前端依次设置有单色仪和分光棱镜，分光棱镜周围分别设置有参考光路、样品光路和面阵探测器，参考光路包括准直透镜一和反射镜，样品光路包括准直透镜二和平移台，面阵探测器电路连接有计算机终端。该装置可有效解决现有的成像装置存在的必须加入耦合介质才能进行探测，成像稳定性和重复性差，灵敏度低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干涉 显微 成像 装置 | ||
【主权项】：
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