[实用新型]电弧等离子体炬用引燃气体分配环有效
申请号: | 202020260456.2 | 申请日: | 2020-03-05 |
公开(公告)号: | CN212152433U | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 杨卫正 | 申请(专利权)人: | 杨卫正 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/503 |
代理公司: | 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 | 代理人: | 陈雅洁 |
地址: | 300000 *** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型的电弧等离子体炬用引燃气体分配环,具有上环体、中环体和下环体;所述上环体的上表面呈具有凹凸结构的异形面,能够与绝缘套的下端面匹配,所述下环体的下表面具有与其外部阳极匹配压紧的圆锥面;所述中环体上绕轴均匀开设有若干切向孔,所述切向孔将流经分配环环体之外的气流导入分配环环体之内流出。本实用新型独立于绝缘套并单独固定于绝缘套底部,能够为气体提供平稳的出气分配结构,形成长期稳定的旋转气流,提高了电弧和电压的稳定性,尤其适用于金刚石材料的沉积制备。 | ||
搜索关键词: | 电弧 等离子体 引燃 气体 分配 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨卫正,未经杨卫正许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020260456.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的