[实用新型]一种改进型ALD镀膜机

摘要

本实用新型属于原子层镀膜领域，具体是一种改进型ALD镀膜机，包括在内部上设置有半月板的内反应腔，和内反应腔盖；在所述内反应腔盖上贯穿有电机轴，而电机轴一端固定在步进电机上，另一端与半月板连接；内反应腔盖上开设有多片呈环形阵列分布的通孔片区，而通孔片区是由多个呈阵列分布的连接孔组成；所述半月板上放置有多个呈环形分布的晶圆；导入的氮气通过内反应腔盖上的通孔片区中的多个呈阵列分布的连接孔流向晶圆表面，发生化学反应，而多片呈环形阵列分布的通孔片区配合半月板相对内反应腔盖转动，实现氮气均匀流向晶圆表面，氮气气流稳定，镀膜的均匀性高；半月板上一次性放置有多个呈环形分布的晶圆进行镀膜，极大的提高了工作效率。