[实用新型]喷淋装置及工艺腔

摘要

本实用新型提出了一种喷淋装置及工艺腔，其中，喷淋装置包括：盖体，盖体上开设有注入通道；电极板，电极板与盖体之间形成布气空间，注入通道连通于布气空间；布气装置，设置在布气空间内，位于注入通道与电极板之间。本实用新型提供的喷淋装置，通过在盖体与电极板之间形成布气空间，通过注入通道注入的气相沉积工艺气体在布气空间进行缓冲后通过电极板沉积在基材上，通过布气空间的形成，使流经电极板后的气体供给更为均匀，进一步提高了镀膜的均匀性。本实用新型提供的喷淋装置，通过在布气空间内设置布气装置，对气相沉积工艺气体起到分散和均匀分布的作用，使气相沉积工艺气体均匀的供给到电极板上，能够提高镀膜均匀性，提高镀膜效果。