[实用新型]腐蚀机反应装置及腐蚀机有效
| 申请号： | 202020336286.1 | 申请日： | 2020-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN211455657U | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 黄国民 | 申请（专利权）人： | 吉林麦吉柯半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 | 代理人： | 唐维虎 |
| 地址： | 132000 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例提供一种腐蚀机反应装置及腐蚀机，详细地，本申请中，在腐蚀机的腐蚀液喷嘴下方设置遮挡部，可以在腐蚀机的旋转主轴带动夹盘旋转对夹盘上放置的待腐蚀物进行腐蚀时，阻挡腐蚀液漏入穿杆螺栓。如此，能够有效解决由于反应腔漏液导致备件寿命减少的情况，从而减少维修保养频次，降低维修费用，提升生产产能。 | ||
| 搜索关键词： | 腐蚀 反应 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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