[实用新型]用于光束偏振匀滑的系统有效
| 申请号： | 202020356735.9 | 申请日： | 2020-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN211426954U | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 孙喜博;耿远超;刘兰琴;张颖;黄晚晴;王文义;马文静;陈元;周丽丹;袁晓东;胡东霞 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 张明利 |
| 地址： | 621999*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请涉及激光偏振匀滑技术领域，公开了一种用于光束偏振匀滑的系统，包括：用于实现目标焦斑轮廓及强度分布匀滑的连续相位板、用于实现偏振分离的双轴晶体和聚焦透镜，连续相位板、聚焦透镜和双轴晶体沿光束入射方向依次排列设置。将经过连续相位板匀滑之后的光束引入特殊角度的双轴晶体实现偏振调控，同时在聚焦平面实现不同偏振态焦斑的空间分离，实现非相干叠加，可以进一步降低焦斑分布的对比度，实现光束匀滑的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光束 偏振 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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